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氣體控溫系統
液冷CDU分配單元 利用液冷板熱交換對服務器內部主要熱源進行冷卻,減少風冷系統的使用 通過液冷CD...
CDU冷卻控溫單元
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MD在熱測試方面的zui大創新是熱控制卡盤系列,主要用于半導體晶片的性能測試、建模、工藝開發、設計缺陷...
快速溫變控溫卡盤MD
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半導體行業廣泛應用 適用于半導體晶圓廠的刻蝕、化學氣相沉積、物理氣相沉積工藝制程,對ETCH、CVD、PV...
Chiller 直冷型
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半導體溫控裝置 主要應用與半導體生產過程中及測試環節的溫度精準控制40°C以內,加熱方式采用壓縮機...
Chiller 換熱型 系統無壓縮機
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半導體溫控裝置 主要應用與半導體生產過程中及測試環節的溫度精準控制40°C以內,加熱方式采用壓縮機...
Chiller低溫復疊制冷系列
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半導體溫控裝置 主要應用與半導體生產過程中及測試環節的溫度精準控制40°C以內,加熱方式采用壓縮機...
Chiller 雙變頻
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半導體溫控裝置 主要應用與半導體生產過程中及測試環節的溫度精準控制40°C以內,加熱方式采用壓縮機...
半導體控溫裝置
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氣體換熱系統耐壓20bar;采用二次過冷技術,制冷迅速,極限溫度低; 整機安裝, 在工廠已將系統測試...
LQ -110℃
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氣體換熱系統耐壓20bar;采用二次過冷技術,制冷迅速,極限溫度低; 整機安裝, 在工廠已將系統測試...
LQ -75℃~-40℃
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無錫冠亞恒溫制冷(LNEYA)的液體溫度控制技術,主要用于半導體測試中的溫度測試模擬,具有寬溫度定向和...
射流式高低溫沖擊測試機AES?-115℃~225℃
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