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FLTZ -45℃~90℃

FLTZ -45℃~90℃

廣泛運用在半導體制程中對反應腔室控溫、熱沉板控溫及需要傳熱介質 不可燃流體控溫場所,適用于半導體芯片制造、芯片器件、航空電子設 備中的制冷加熱溫度控制。

廠家實力視頻:

生產車間面積超1.2萬㎡,2021年銷售額突破3億元,在職員工近300人。

應用行業

無錫冠亞氟化液制冷加熱控溫系統廣泛運用在半導體制程中對反應腔室控溫、熱沉板控溫及需要傳熱截止不可燃流體控溫場所,適用于半導體芯片制造流程、功率器件、航空電子設備中的制冷加熱溫度控制。

產品不僅能在眾多傳熱應用中提供較好性能,而且不會對人身安全和環境可持續性產生負面影響。氟化液制冷加熱控溫是使用不可燃的絕緣液體氟化液,具有工作溫度范圍寬泛,易于維護等特點,是傳統冷卻液體(如水、水乙二醇或油)的理想替代品。氟化液制冷加熱控溫系統用途廣泛,從半導體制程過程冷卻,再到對航空航天電子設備的冷卻都有應用。

結構原理

控溫系統結構設計原理和功能優勢 采用全密閉管道式設計,降低導熱液需求量的同時,提高系統的熱量利 用率,達到快速升降溫度。

氟化液具有低毒性、不可燃,屬于一種不會影響環境的可持續性發展的 高性能產品,可使溫室氣體排放量減少。同時針對氟化液易揮發特點, 加強接頭設計、系統密封設計,確保介質使用壽命。

型號FLTZ-402
FLTZ-402W
FLTZ-403
FLTZ-403W
FLTZ-404
FLTZ-404W
FLTZ-406
FLTZ-406W
FLTZ-408
FLTZ-408W
FLTZ-410
FLTZ-410W
FLTZ-415
FLTZ-415W
溫度范圍?-45℃~90℃
控溫精度±0.1℃(可定制±0.01℃控溫精度設備)
流量/壓力 MAX10~25L/min? 5bar15~45L/min 5bar25~75L/min 5bar
制熱采用壓縮機制熱,防止冷凝器結霜技術
制冷量at-35℃1kW1.4kW1.8kW2.5kW3.3kW5kW8kW
內循環液容積4L5L6L8L10L12L20L
膨脹罐容積10L10L15L15L20L25L35L
制冷劑R404A
載冷劑硅油、氟化液、乙醇水溶液等
進出接口尺寸Rc1/2Rc1/2Rc3/4Rc3/4Rc3/4Rc1Rc1
冷卻水接口Rc1/2Rc3/4Rc3/4Rc1Rc1Rc1Rc1 1/8
冷卻水流量at20℃1.5m3/H2.4m3/H3.5m3/H5m3/H5.5m3/H6m3/H8m3/H
?藝過程溫度控制可根據?創?模型?建樹算法和串級算法相結合來控制遠程?標溫度(動態控溫)
外形尺寸 cm90*45*11390*45*11390*45*113105*50*140105*50*140108*60*150108*60*150

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