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SUNDI?-90℃~+250℃

SUNDI?-90℃~+250℃

制冷加熱控溫系統(tǒng)的典型應用:高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸餾系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。

制冷加熱控溫系統(tǒng)優(yōu)點與功能:溫度范圍從-120℃至350℃,性能優(yōu)越,高精度、智能型溫度控制。多功能報警系統(tǒng)和安全功能、7寸、10寸彩色TFT觸摸屏圖形顯示,采用磁力驅動泵,沒有軸封泄漏問題。高溫降溫技術,可以從300℃直接制冷降溫【因為只有膨脹腔體內的導熱介質才和空氣中的氧氣接觸(而且膨脹箱的溫度在常溫到60度之間),可以達到降低導熱介質被氧化和吸收空氣中水份的風險。

廠家實力視頻:

生產車間面積超2.5萬㎡,公司現(xiàn)有員工340余人,其中研發(fā)技術人員占20%,公司現(xiàn)有廠房面積25000㎡,年產量5000臺,連續(xù)2年產值超3億。


 

產品應用

廣泛用于半導體、新材料、生物工程、航天工業(yè)、醫(yī)療、化工等行業(yè); 配微通道、真空設備、蒸餾系統(tǒng)、老化測試等

常見的配套設備有高壓反應釜、雙層玻璃反應釜、雙層反應釜、微通道反應器 蒸餾結晶、半導體設備冷卻、材料老化、結晶系統(tǒng)控溫

 

結構原理及優(yōu)勢

高溫時沒有導熱介質蒸發(fā)出來,而且不需要加壓的情況下就可以實現(xiàn) -80~190℃、-70~220℃、-55~250℃連續(xù)控溫;

采用全密閉管道式設計,降低導熱液需求量的同時,提高系統(tǒng)的熱量利 用率,達到快速升降溫度。 膨脹容器中的導熱介質不參與循環(huán),可以降低導熱介質在運行中吸收水分和揮發(fā)的風險

型號SUNDI-955WSUNDI-975WSUNDI-9A10WSUNDI-9A15WSUNDI-9A25WSUNDI-9A38WSUNDI-9A60WSUNDI-9A80W
介質溫度范圍?-90℃~+250℃
控制系統(tǒng)前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器
溫控模式選擇物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
通信協(xié)議MODBUS RTU 協(xié)議 ?RS 485接口,以太網接口
外接入溫度反饋PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)
溫度反饋設備導熱介質 進口溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度
導熱介質溫控精度±0.5℃
反應物料溫控精度±1℃
加熱功率 kW5.57.5101525386080
制冷量?kW250℃5.57.5101525386080
-85℃0.50.70.851.31.93.568
流量/壓力 MAX
L/min bar
355060110150250400400
1.21.21.51.51.51.52.52.5
循環(huán)泵磁力驅動泵
壓縮機日立、泰康、谷輪、松洋、卡萊爾等壓縮機
操作面板7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄
安全防護具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高低壓保護,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
制冷劑R-404A/R508B
接口尺寸ZG3/4ZG1ZG1ZG1DN32 PN10DN40 PN10DN65 PN10DN65 PN10
水冷型 W
溫度 20度
3400L/H
1.5bar~4bar
ZG1
4500L/H
1.5bar~4bar
ZG1
5200L/H
1.5bar~4bar
ZG1 1/4
8m3/H
1.5bar~4bar
DN40
12m3/H
1.5bar~4bar
DN50
20m3/H
1.5bar~4bar
DN65
30m3/H
1.5bar~4bar
DN80
40m3/H
1.5bar~4bar
DN100
外形尺寸 cm80*120*18580*120*18580*120*185150*100*185200*145*205200*145*205250*160*225300*160*225
重量kg3655706809501400175024003150
電源 380V 50HZ16kW27kW30kW42kW59kW83kW130kW188kW
選配電源非標準電源需定制
選配加熱功率25kW以內sundi系列可選配介質控溫精度士0.1℃,物料控溫精度±0.1℃

產品參數(shù)下載

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